安徽PTFL表面处理规格齐全
刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相，等离子体与物体表面的有机物基体发生化学反应，生成其他比如CO,CO2,H2O等气体，从而达到蚀刻的目的。
实现刻蚀所使用的气体大多为含氟气体，应用最多的是四氟化碳。四氟化碳是一种无色无味的气体，无毒、不燃，但在高浓度时具有麻醉作用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。
四氟化碳在被等离子清洗机电离后会产生含氢氟酸成分的刻蚀性气相等离子体，能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。
47.清洁粒子1通过喷嘴110以超音速速率喷射。清洁粒子1可作为颗粒或粉末提供。例如，y2o3、al2o3、yag、ysz或zr2o3可被选择为清洁粒子1。除了那些列出的之外，清洁粒子1可作为具有与待清洁的物体10的涂布薄膜的硬度值相似的硬度值的粒子提供。关于相似硬度值，当物体10的涂布薄膜为y2o3时，al2o3、yag、ysz或zr2o3具有与物体10的涂布薄膜的硬度值相似的硬度值。可选择并可单独供应一种或多种类型的清洁粒子1。当单独提供一种或多种类型的清洁粒子时，可进一步提供连接到主供应管线131以供应不同清洁粒子的附加的供应管线。48.清洁粒子1可被粒化而成。表面处理设备可包括使原料粒子粒化的组件。
44.喷嘴110与主供应管线131连接。主供应管线131与粒子供应管线132及气体供应管线135连接。粒子供应管线132向喷嘴110供应清洁粒子1。清洁粒子储存构件140可设置在粒子供应管线132的端部处。清洁粒子储存构件140可呈漏斗的形式提供。粒子供应管线132可连接到清洁粒子储存构件140的下端。清洁粒子储存构件140可与载体气体供应管线134连接。载体气体供应管线134可向清洁粒子储存构件140供应载体气体。载体气体可携带供应到喷嘴110的清洁粒子。载体气体供应管线134可与载体气体供应150连接。载体气体可以是空气或惰性气体。气体供应管线135将气体供应到喷嘴110。气体供应管线135可与气体供应160连接。主阀131a可与主供应管线131并列设置。阀132a可与粒子供应管线132并列设置。第二阀135a可与气体供应管线135并列设置。第三阀134a可与载体气体供应管线134并列设置。加热器138可与载体气体供应管线134并列设置，且可将经供应的载体气体加热到设置温度。主阀131a、阀132a、第二阀135a及第三阀134a可仅利用打开阀/关闭阀实施，但也可利用可调节流量率的流量控制阀实施。45.虽然未图示出，但流量计可分别与主供应管线131、粒子供应管线132、气体供应管线135及载体气体供应管线134并列设置。46.控制器200可控制主阀131a、阀132a、第二阀135a、第三阀134a及移动构件120。
9.本发明构思的实施例提供一种不使用诸如酸性化学处理或碱性化学处理的化学处理过程的环境友好的表面处理设备及方法。10.待由本发明构思解决的技术问题并不限制于前述问题，且本文未提及的其他技术问题将由本发明构思涉及的那些本领域普通技术人员从以下描述中充分理解。11.根据实施例，一种表面处理设备包括:腔室，在该腔室中具有处理空间；排气管线，该排气管线用于抽空该处理空间；支承构件，该支承构件设置在该处理空间中且支承待处理物体；喷嘴，该喷嘴向该物体以超音速速率喷射粒子或气体；移动构件，该移动构件使该喷嘴或该物体相对于彼此移动，及主供应管线，该主供应管线向该喷嘴供应粒子。12.在实施例中，该粒子可具有与该物体的涂布成分相同的成分或硬度与该物体的该涂布成分的硬度相似的成分。13.在实施例中，该粒子可包括y2o3、al2o3、yag、ysz及zr2o3中的一者或多者。14.在实施例中，该粒子可由原料粒子粒化而成或可以粉末状态提供。15.在实施例中，该粒子可具有几μm至100μm之大小。16.在实施例中，该粒子可与载体气体一起被供应。17.在实施例中，该表面处理设备可进一步包括将该气体供应到该喷嘴的气体供应管线。18.在实施例中，该气体供应管线可连接到该主供应管线，且该粒子可经由与该主供应管线连接的粒子供应管线供应到该主供应管线。