福建阿尔门试片公司在哪里
刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相，等离子体与物体表面的有机物基体发生化学反应，生成其他比如CO,CO2,H2O等气体，从而达到蚀刻的目的。
实现刻蚀所使用的气体大多为含氟气体，应用最多的是四氟化碳。四氟化碳是一种无色无味的气体，无毒、不燃，但在高浓度时具有麻醉作用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。
四氟化碳在被等离子清洗机电离后会产生含氢氟酸成分的刻蚀性气相等离子体，能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。
金属表面的清洁和预处理: 表面清洁和预处理设备(铬酸盐处理设备；使用有机溶剂去油和清洁设备；使用水溶剂去油和清洁设备；使用散体单元处理用振动设备；去除薄膜和油漆用流化设备；表面清洁用激光设备；钝化设备；磷化处理设备；酸洗设备；表面清洁用等离子系统；喷砂处理表面硬化用设备；超声波设备；蒸汽喷砂处理设备；表面清洁和预处理设备附件)；表面清洁和预处理用辅料(铬酸盐处理剂；清洁和去油剂；去垢剂；湿润剂、清洁剂、添加剂；磷化剂；酸洗剂；蒸汽喷砂用研磨材料；防腐蚀表面保护剂)
三、磁控溅射镀膜技术及设备磁控溅射能够地控制工艺参数和提高膜层的附着力、密度及均匀性，已成为沉积薄膜的重要的方法之一。是一种多功能、率的镀膜设备，可装配柱状旋转磁控靶和平面磁控靶。主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件沉积铝、铜、铬、钛、银及不锈钢等各种功能薄膜，所镀膜层具有均匀、致密、附着力强等特点。四、复合离子镀膜技术及设备复合离子镀膜是一种在将电弧、磁控溅射和离子源结合的镀膜技术，具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基本材料表面合金化等特点，可制备各种金属化合物尤其是金属氮化物膜层。
23、化学和电化学氧化及染黑、镀镍及黑铬等。从泽均匀、耐磨、装饰防护性等方面看，以黑铬的镀层为佳，主要用于航空、仪表、相机等光学系统中，以及其它产品上用于装饰、作标志等场合。3、 乳白铬乳白铬的特点是无光泽、硬度低、无裂纹网、随镀层厚度的增加，气孔减少、抗蚀性好，在乳白铬镀层作刻度容易，且使用者不感到眼睛疲劳。乳白铬广泛用于工量具、机械设备中的分度盘、刻度盘、医疗器械等。4、 镀硬铬这种镀层的特点是通过厚的镀层来突出铬层本身的性能。包括耐热、耐磨损、忍腐蚀，以及低的磨擦系数等。硬铬一般是直接镀在钢铁件表面，它的用途比较广泛。例如，高吨位水压机的大型柱塞等大型设备的部件用硬铬。它的用途比较广