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等离子表面处理设备
等离子表面处理设备广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域，是企业、科研院所进行等离子体表面处理的理想设备。
等离子处理机
等离子处理机具有高稳定性、高性价比、高均匀性等诸多优点。与传统的方法相比，等离子表面处理设备具有成本低、无废弃物、无污染等显著的优点。
等离子清洗机
等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。
真空等离子清洗机
真空等离子清洗机是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质，等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，达到表面处理、清洗和刻蚀效果。
低温等离子处理设备
低温等离子设备已在传统和高技术领域被广泛运用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域。类型有:水平式低温等离子设备、卷对卷式低温等离子设备
三、磁控溅射镀膜技术及设备磁控溅射能够地控制工艺参数和提高膜层的附着力、密度及均匀性，已成为沉积薄膜的重要的方法之一。是一种多功能、率的镀膜设备，可装配柱状旋转磁控靶和平面磁控靶。主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件沉积铝、铜、铬、钛、银及不锈钢等各种功能薄膜，所镀膜层具有均匀、致密、附着力强等特点。四、复合离子镀膜技术及设备复合离子镀膜是一种在将电弧、磁控溅射和离子源结合的镀膜技术，具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基本材料表面合金化等特点，可制备各种金属化合物尤其是金属氮化物膜层。
15、操作 。Lml和LMR根本的区别在于；IML和IMR在lens表面的不同， IML表面有PET或PC片材，而IMR表面只有油墨。IMD是一个比较复杂的过程，IML的片材有PET，也可以用PC。塑料粒子一般采用PMMA和ABS。IML与IMR各自有优点，IMR不是很耐磨，Nokia和Moto的手机有一部分就是采用IMR技术的，时间稍微长一点也会造成划伤.IML大的缺陷就是不能整体实现IML技术，仅于某一块区域。塑料涂装的作用塑料易于着，然而塑料的着有很多限性，如不显本、颜料用量大、成本高等。为了提高塑料的装饰性能，需要涂装才能实现如套装饰、增加表面的花品种和光泽，使工程塑料
气体可以是与载体气体相同类型的气体且可以是惰性气体或空气。根据本发明构思的实施例，将具有与涂布薄膜的表面的硬度相似的硬度的粉末而不是诸如氩气或二氧化碳的精细粒子用作清洁粒子1，且因此清洁粒子1在与污染物20碰撞后不会升华。清洁粒子1残留在物体10的表面上的未经升华的残余物及污染物的残余物可通过气体吹扫从物体10的表面去除。经吹扫残余物可经由排气管线(未示出)释放。56.参考图6，主阀131a、阀132a及第三阀134a打开，且第二阀135a关闭。清洁粒子1喷射在物体10的经清洁表面。在该步骤中，清洁粒子1作为涂布粒子。57.通过控制清洁粒子1周围的气氛或载体气体的温度、喷嘴110喷射清洁粒子1时的压力及清洁粒子1的粒径，将清洁粒子1沉积在物体10的经清洁表面上。虽然在图6的实施例中已经描了清洁粒子1作为涂布粒子提供，但涂布粒子可与在清洁过程中使用的清洁粒子不同。如上所述，当经由喷嘴110单独供应两种或更多种类型的粒子时，可进一步提供连接到主供应管线131以供应不同粒子的附加的供应管线。58.图7是示出根据本发明构思的各种实施例的部件的经清洁表面的照片。59.清洁区域、第二清洁区域及第三清洁区域分别在不同条件下被清洁，且确定在情况下都存在清洁力。60.通过将干净干燥空气(clean dry air；cda)作为载体气体喷射y2o3粒子50次来清洁清洁区域。以30标准升每分钟(slm)来供应cda。确定清洁区域的涂布厚度减小了10μm。61.通过将干净干燥空气(cda)作为载体气体喷射y2o3粒子100次来清洁第二清洁区域。