表面处理设备
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青海喷砂机生产厂商定制

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  • 供应商:
    表面处理设备
  • 价格:
    1000.00
  • 最小起订量:
    1台
  • 地址:
  • 手机:
    18823836134
  • 联系人:
    王先生 (请说在中科商务网上看到)
  • 产品编号:
    213901634
  • 更新时间:
    2024-02-14
  • 发布者IP:
  • 产品介绍
  • 用户评价(0)
产品参数
  • 山东
  • 定制
  • 优良
  • 完善
产品优势
  • ①表面改性技术(金属、非金属) 通过物理、化学等方法,改变材料表面的形貌、相组成、微观结构、缺陷状态、应力状态。材料表面化学组成不变。 ②表面合金化技术(金属) 通过物理方法,使添加材料进入基体,形成合金化层。 ③表面转化膜技术(金属) 通过化学方法,使添加材料与基体发生化学反应,形成转化膜。 ④表面涂(镀)层技术(金属、非金属) 通过物理、化学方法,使添加材料在基体表面形成镀、涂层。基材不参与涂层的形成。
  • 1、客户反馈:收到客户反馈后,团队能及时响应,了解客户的需求和问题。 2、排查:对问题进行排查,确认问题所在,并提出有效解决方案 3、服务执行:团队会根据客户需求,在规定时间内进行维修、保养等服务。 4、客户反馈:在服务结束后,向客户咨询反馈,了解服务满意度,对服务进行改进。

详细说明

  青海喷砂机生产厂商定制

  刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等,刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相,等离子体与物体表面的有机物基体发生化学反应,生成其他比如CO,CO2,H2O等气体,从而达到蚀刻的目的。

  实现刻蚀所使用的气体大多为含氟气体,应用最多的是四氟化碳。四氟化碳是一种无色无味的气体,无毒、不燃,但在高浓度时具有麻醉作用,所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶,所使用的减压阀也为专用减压阀。

  四氟化碳在被等离子清洗机电离后会产生含氢氟酸成分的刻蚀性气相等离子体,能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除,在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。

  金属表面的清洁和预处理: 表面清洁和预处理设备(铬酸盐处理设备;使用有机溶剂去油和清洁设备;使用水溶剂去油和清洁设备;使用散体单元处理用振动设备;去除薄膜和油漆用流化设备;表面清洁用激光设备;钝化设备;磷化处理设备;酸洗设备;表面清洁用等离子系统;喷砂处理表面硬化用设备;超声波设备;蒸汽喷砂处理设备;表面清洁和预处理设备附件);表面清洁和预处理用辅料(铬酸盐处理剂;清洁和去油剂;去垢剂;湿润剂、清洁剂、添加剂;磷化剂;酸洗剂;蒸汽喷砂用研磨材料;防腐蚀表面保护剂)

  气体可以是与载体气体相同类型的气体且可以是惰性气体或空气。根据本发明构思的实施例,将具有与涂布薄膜的表面的硬度相似的硬度的粉末而不是诸如氩气或二氧化碳的精细粒子用作清洁粒子1,且因此清洁粒子1在与污染物20碰撞后不会升华。清洁粒子1残留在物体10的表面上的未经升华的残余物及污染物的残余物可通过气体吹扫从物体10的表面去除。经吹扫残余物可经由排气管线(未示出)释放。56.参考图6,主阀131a、阀132a及第三阀134a打开,且第二阀135a关闭。清洁粒子1喷射在物体10的经清洁表面。在该步骤中,清洁粒子1作为涂布粒子。57.通过控制清洁粒子1周围的气氛或载体气体的温度、喷嘴110喷射清洁粒子1时的压力及清洁粒子1的粒径,将清洁粒子1沉积在物体10的经清洁表面上。虽然在图6的实施例中已经描了清洁粒子1作为涂布粒子提供,但涂布粒子可与在清洁过程中使用的清洁粒子不同。如上所述,当经由喷嘴110单独供应两种或更多种类型的粒子时,可进一步提供连接到主供应管线131以供应不同粒子的附加的供应管线。58.图7是示出根据本发明构思的各种实施例的部件的经清洁表面的照片。59.清洁区域、第二清洁区域及第三清洁区域分别在不同条件下被清洁,且确定在情况下都存在清洁力。60.通过将干净干燥空气(clean dry air;cda)作为载体气体喷射y2o3粒子50次来清洁清洁区域。以30标准升每分钟(slm)来供应cda。确定清洁区域的涂布厚度减小了10μm。61.通过将干净干燥空气(cda)作为载体气体喷射y2o3粒子100次来清洁第二清洁区域。

  72.上述描述举例说明本发明构思。此外,上述内容描述了本发明构思的实施例,且本发明构思可用于各种其他组合、变化及环境中。即,在不脱离本说明书中揭示的本发明构思的范围、书面公开的等效范围及/或本领域普通技术人员的技术或知识范围的情况下,可以对本发明构思进行改变或修改。书面实施例描述了用于实施本发明构思的技术精神的佳状态,且可进行本发明构思的特定应用及目的中所需的各种改变。因此,本发明构思的详细描述并非旨在限制所揭示的实施例状态中的本发明构思。此外,应理解为所附权利要求包括其他实施例。73.虽然已经参考实施例描述了本发明构思,但对于本领域普通技术人员显而易见的是,在不脱离本发明构思的精神及范围的情况下可以进行各种改变及修改。因此,应当理解,上述实施例并非限制性的,而是示例性的。