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等离子表面处理设备
等离子表面处理设备广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域，是企业、科研院所进行等离子体表面处理的理想设备。
等离子处理机
等离子处理机具有高稳定性、高性价比、高均匀性等诸多优点。与传统的方法相比，等离子表面处理设备具有成本低、无废弃物、无污染等显著的优点。
等离子清洗机
等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。
真空等离子清洗机
真空等离子清洗机是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质，等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，达到表面处理、清洗和刻蚀效果。
低温等离子处理设备
低温等离子设备已在传统和高技术领域被广泛运用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域。类型有:水平式低温等离子设备、卷对卷式低温等离子设备
从理论上讲，硅胶材料表层存在氧原子、负和静电，粉尘颗粒具有正性，粉尘颗粒与硅胶材料静电表层可以相互吸引，导致表层起尘，不易清洗，干扰物品外观和功效。对于硅胶材料表面层容易沾染灰尘的问题，等离子体表面改性技术可以改善相关功能。由于静电干扰，硅胶材料容易沾上灰尘。如果制造商使用传统的化学涂装方法，使用耐磨、防尘、润滑涂层只需要几个月的时间。这种新途径是利用等离子体对硅胶材料表面的氧原子进行修饰，使负硅胶材料表面变为正，使用无害的有机化工原料，不排放污染物，因此等离子体是一种清洁生产工艺。它具有低静电、高耐磨、防尘等特点，更适用于高端物品，如眼镜架、电子表带等，也可应用于医疗器械、运动器材等，使这类物品的功能。
使用表面处理设备的表面处理方法将与图3一起参考图4至图6以顺序次序描述。52.从基材处理设备拆卸待清洁的物体10并将该待清洁的物体10提供给表面处理设备。待清洁的物体10可以是通过使用y2o3在阳氧化铝合金基底材料上执行aps涂布而获得的部件。待清洁的物体10可具有根据过程的进展沉积在其上的污染物2物20可以是聚合物基底的污染物。53.参考图4，主阀131a、阀132a及第三阀134a打开，且第二阀135a关闭。以超音速速率将清洁粒子1喷射在物体10的已污染表面上。清洁粒子1及表面的碰撞能量能够在真空气氛中精细调节。清洁粒子1及污染物20彼此碰撞且污染物20从物体10的表面掉落。54.当清洁粒子1的温度或清洁粒子1周围的温度升高时，清洁粒子1的动能可能会增大。因此，可通过控制清洁粒子1的温度或与清洁粒子1一起供应的载体气体的温度来调节清洁力。55.参考图5，主阀131a及第二阀135a打开，且阀132a及第三阀134a关闭。通过向物体10的经清洁表面吹扫气体来去除残留在物体10的已清洁表面上的灰尘。
72.上述描述举例说明本发明构思。此外，上述内容描述了本发明构思的实施例，且本发明构思可用于各种其他组合、变化及环境中。即，在不脱离本说明书中揭示的本发明构思的范围、书面公开的等效范围及/或本领域普通技术人员的技术或知识范围的情况下，可以对本发明构思进行改变或修改。书面实施例描述了用于实施本发明构思的技术精神的佳状态，且可进行本发明构思的特定应用及目的中所需的各种改变。因此，本发明构思的详细描述并非旨在限制所揭示的实施例状态中的本发明构思。此外，应理解为所附权利要求包括其他实施例。73.虽然已经参考实施例描述了本发明构思，但对于本领域普通技术人员显而易见的是，在不脱离本发明构思的精神及范围的情况下可以进行各种改变及修改。因此，应当理解，上述实施例并非限制性的，而是示例性的。