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等离子表面处理设备
等离子表面处理设备广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域，是企业、科研院所进行等离子体表面处理的理想设备。
等离子处理机
等离子处理机具有高稳定性、高性价比、高均匀性等诸多优点。与传统的方法相比，等离子表面处理设备具有成本低、无废弃物、无污染等显著的优点。
等离子清洗机
等离子清洗机是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。
真空等离子清洗机
真空等离子清洗机是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质，等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，达到表面处理、清洗和刻蚀效果。
低温等离子处理设备
低温等离子设备已在传统和高技术领域被广泛运用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温灭菌及污染治理等多种领域。类型有:水平式低温等离子设备、卷对卷式低温等离子设备
3． 烤漆、喷粉、主要技术:光泽度、膜厚和差烤漆前的表面处理:除锈,除油,磷化处理.烤漆对工件一般要求及工艺处理:(1) 烤漆对工件表面要求平整,凹凸不平影响外观.(2) 在要求的烤漆面上如有通孔,工艺安排时须对该孔作单边加0.1mm处理,以避免因烤漆导致该孔减小.(3) 在烤漆面如有通孔螺柱,螺母及直接攻芽螺纹则须注明并提醒注意以避免烤漆粘附在螺纹上而导致不良.(4) 烤漆后的工件一般不能受外界的冲击力,如折弯,冲压等.以避免烤漆层脱落.
25.在实施例中，该粒子可包括y2o3、al2o3、yag、ysz及zr2o3中的一者或多者。26.在实施例中，该粒子可由原料粒子被粒化而成或可以粉末状态提供。27.在实施例中，该粒子可具有几μm至100μm之大小。28.在实施例中，该粒子可与载体气体一起供应。29.在实施例中，该方法可进一步包括:在清洁该物体的该表面之后停止该等粒子的供应，且通过向该物体的经清洁表面吹扫气体来去除残留在该物体的表面上的残余物。30.在实施例中，该方法可进一步包括:在去除残留在该物体的该表面上的该残余物之后，通过与该粒子相同或不同的第二粒子与该物体的表面的碰撞，用该第二粒子涂布该物体的表面。附图说明31.结合以下随附附图，上述及其他目的及特征根据以下描述将变得显而易见，其中除非另外说明，贯穿整个各个附图，相似的附图标记是指相似的部件，且附图如下:32.图1是示出通过在阳氧化铝合金基底材料上执行aps涂布获得的部件在干蚀刻过程中使用达约600小时之后的状态的照片。33.图2示出根据本发明构思的实施例的表面处理设备的示意图及包括在该表面处理设备中的喷嘴的剖视图。34.图3是示出根据本发明的实施例的表面处理方法的流程图。35.图4是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备清洁部件的表面的步骤的视图。
三、磁控溅射镀膜技术及设备磁控溅射能够地控制工艺参数和提高膜层的附着力、密度及均匀性，已成为沉积薄膜的重要的方法之一。是一种多功能、率的镀膜设备，可装配柱状旋转磁控靶和平面磁控靶。主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件沉积铝、铜、铬、钛、银及不锈钢等各种功能薄膜，所镀膜层具有均匀、致密、附着力强等特点。四、复合离子镀膜技术及设备复合离子镀膜是一种在将电弧、磁控溅射和离子源结合的镀膜技术，具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基本材料表面合金化等特点，可制备各种金属化合物尤其是金属氮化物膜层。