福建等离子抛光设备公司有哪些
刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相，等离子体与物体表面的有机物基体发生化学反应，生成其他比如CO,CO2,H2O等气体，从而达到蚀刻的目的。
实现刻蚀所使用的气体大多为含氟气体，应用最多的是四氟化碳。四氟化碳是一种无色无味的气体，无毒、不燃，但在高浓度时具有麻醉作用，所以在工业应用时储存的容器为专用高压气瓶，所使用的减压阀也为专用减压阀。
四氟化碳在被等离子清洗机电离后会产生含氢氟酸成分的刻蚀性气相等离子体，能够对各种有机表面实现刻蚀及有机物去除，在晶圆制造、线路板制造、太阳能电池板制造等行业中被广泛应用。
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随着工业和消费类电子往集成化、微型化方向发展，对电子器件的性提出了更高的要求。在电子元器件生产加工过程中因各种因素的影响导致受到污染，这对产品的质量和使用寿命会造成严重的影响。等离子体可以在不破坏材料表面特性及电特性的前提下，实现对电子元器件表面进行分子水平清洗目的，还可以改善电子元器件材料本身的表面性能，如提高表面湿润性和键合、电镀及压焊等工艺的牢固性，尤其适合不耐热以及不耐溶剂的电子器件进行表面处理。