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本实用新型涉及一种废水处理装置，具体说是表面处理生产线废水处理装置。它包括蒸发器。其特点是还包括物理过滤机构、超滤机构、第一反渗透机构、化学过滤机构、海水淡化机构、产水箱、第二反渗透机构和回用水箱；所述物理过滤机构与超滤机构相连，超滤机构与第一反渗透机构相连，第一反渗透机构与产水箱和化学过滤机构相连，化学过滤机构与产水箱和海水淡化机构相连，海水淡化机构与产水箱和所述蒸发器相连；所述产水箱与第二反渗透机构相连，第二反渗透机构与回用水箱相连，所述蒸发器与产水箱相连。采用高处理装置可减少能源消耗，减小环境污染。
7. 公差的合理性:对于图面要求走公差的地方一定要合理分配公差.若为电镀,可不考虑公差,若为烤漆,则外形走负差,孔位须走正差.8. 毛刺方向:对于门板类及盒体类考虑毛刺方向,一般绘制完图后如料件正面在内,可使用镜像命令反转图面再标注尺寸.要毛刺在料件反面为原则（数控冲床的排版方向要考虑到正反面及毛刺方向，是表面不处理的不锈钢件亮面方向的选择）。9. 刀具的合理选择:对于需用刀具加工的地方,先查看公司刀具表确定有无此刀具,若无看是否可作工艺上的改进,无法修正时要请购刀具.
36.图5是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备向部件的表面吹扫气体的步骤的视图。37.图6是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备涂布部件的表面的步骤的视图。38.图7是示出根据本发明构思的各种实施例的部件的经清洁表面的照片。具体实施方式39.其后，将参考随附附图更详细地描述本发明构思的实施例。然而，本发明构思可以许多不同形式来体现，且不应解释为限于本文阐述的实施例。而是，提供这些实施例以便本公开内容将为彻底及的，且将为本领域普通技术人员传达本发明构思的范围。在附图中，为了阐述说明，夸大了组件的尺寸。40.图2示出根据本发明构思的实施例的表面处理设备的示意图及包括在该表面处理设备中的喷嘴的剖视图。将参考图2描述根据实施例的表面处理设备。表面处理设备包括喷嘴110、移动构件120及控制器200。
三、磁控溅射镀膜技术及设备磁控溅射能够地控制工艺参数和提高膜层的附着力、密度及均匀性，已成为沉积薄膜的重要的方法之一。是一种多功能、率的镀膜设备，可装配柱状旋转磁控靶和平面磁控靶。主要用于金属或非金属（塑料、玻璃、陶瓷等）的工件沉积铝、铜、铬、钛、银及不锈钢等各种功能薄膜，所镀膜层具有均匀、致密、附着力强等特点。四、复合离子镀膜技术及设备复合离子镀膜是一种在将电弧、磁控溅射和离子源结合的镀膜技术，具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基本材料表面合金化等特点，可制备各种金属化合物尤其是金属氮化物膜层。