内蒙古低压真空机生产厂商定制
1.表面处理生产线废水处理装置，包括蒸发器；其特征在于还包括物理过滤机构、超滤机构、第一反渗透机构、化学过滤机构、海水淡化机构、产水箱、第二反渗透机构和回用水箱；所述物理过滤机构与超滤机构相连，超滤机构与第一反渗透机构相连，第一反渗透机构与产水箱和化学过滤机构相连，化学过滤机构与产水箱和海水淡化机构相连，海水淡化机构与产水箱和所述蒸发器相连；所述产水箱与第二反渗透机构相连，第二反渗透机构与回用水箱相连，所述蒸发器与产水箱相连。
2.如权利要求1所述的表面处理生产线废水处理装置，其特征在于所述物理过滤机构包括石英砂过滤器和活性炭过滤器，所述石英砂过滤器与活性炭过滤器相连，活性炭过滤器与所述超滤机构相连。
3.如权利要求1或2所述的表面处理生产线废水处理装置，其特征在于所述化学过滤机构包括第一纳滤器和第二纳滤器，所述第一反渗透机构与第一纳滤器相连，第一纳滤器与第二纳滤器和产水箱相连，第二纳滤器与海水淡化机构和产水箱相连。
因此，在清洁待清洁的物体的表面之后，能够持续执行沉积，且因此提高生产力。65.此外，根据本发明构思的实施例，涂布步骤是在清洁步骤之后执行。因此，可保持对初始涂布薄膜的损失厚度及表面粗糙度的补偿，且因此当安装半导体处理腔室时，可能使受到遭遇初始条件困扰的发生小化。66.如上所述，根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以地清洁部件。67.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中涂布厚度的减小。68.根据本发明构思的实施例，与相关技术相比，表面处理设备及方法可降低在部件的清洁过程中表面平均粗糙度的减小。69.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可通过清洁部件并持续涂布部件来降低花费在使部件再生上的时间。70.根据本发明构思的实施例，表面处理设备及方法可以在不使用诸如酸性化学处理或碱性化学处理的化学处理过程的情况下环境友好地使部件再生。71.本发明构思的功效并不限制于前述功效，且本文未提及的其他功效可由本发明构思涉及的那些本领域普通技术人员从该说明书及附图中充分理解。
气体可以是与载体气体相同类型的气体且可以是惰性气体或空气。根据本发明构思的实施例，将具有与涂布薄膜的表面的硬度相似的硬度的粉末而不是诸如氩气或二氧化碳的精细粒子用作清洁粒子1，且因此清洁粒子1在与污染物20碰撞后不会升华。清洁粒子1残留在物体10的表面上的未经升华的残余物及污染物的残余物可通过气体吹扫从物体10的表面去除。经吹扫残余物可经由排气管线(未示出)释放。56.参考图6，主阀131a、阀132a及第三阀134a打开，且第二阀135a关闭。清洁粒子1喷射在物体10的经清洁表面。在该步骤中，清洁粒子1作为涂布粒子。57.通过控制清洁粒子1周围的气氛或载体气体的温度、喷嘴110喷射清洁粒子1时的压力及清洁粒子1的粒径，将清洁粒子1沉积在物体10的经清洁表面上。虽然在图6的实施例中已经描了清洁粒子1作为涂布粒子提供，但涂布粒子可与在清洁过程中使用的清洁粒子不同。如上所述，当经由喷嘴110单独供应两种或更多种类型的粒子时，可进一步提供连接到主供应管线131以供应不同粒子的附加的供应管线。58.图7是示出根据本发明构思的各种实施例的部件的经清洁表面的照片。59.清洁区域、第二清洁区域及第三清洁区域分别在不同条件下被清洁，且确定在情况下都存在清洁力。60.通过将干净干燥空气(clean dry air；cda)作为载体气体喷射y2o3粒子50次来清洁清洁区域。以30标准升每分钟(slm)来供应cda。确定清洁区域的涂布厚度减小了10μm。61.通过将干净干燥空气(cda)作为载体气体喷射y2o3粒子100次来清洁第二清洁区域。
以30标准升每分钟(slm)来供应cda。确定第二清洁区域之涂布厚度减小了12μm。虽然清洁粒子1喷射到第二经清洁区域100次，但确定涂布厚度没有显著减小且仅去除了污染物。62.通过将干净干燥空气(cda)作为载体气体喷射al2o3粒子50次来清洁第三清洁区域。以30标准升每分钟(slm)来供应cda。确定第三清洁区域的涂布厚度减小了4μm。63.在清洁之后，经清洁表面可将干净干燥空气(cda)作为载体气体用y2o3来涂布。例如，涂布粒子可作为具有几μm或更小的粒子的粉末提供，且可以不同的设置其中储存涂布粒子的粒子储存构件及其中储存清洁粒子的粒子储存构件。64.与常规研磨清洁方法中的厚度减小相比，根据本发明构思的实施例的厚度减小小。例如，在研磨的情况下，涂布厚度减小了20μm，然而在本发明构思的实施例中，图7中第二清洁区域中的涂布厚度减小了12μm。因此，部件的涂布效能可保留更长的时间。此外，根据本发明构思的实施例，通过控制粒子的大小、粒子的类型及喷射速度，经由喷嘴供应的粒子可适用于清洁粒子及涂布粒子。