表面处理设备
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黑龙江真空镀膜设备规格齐全

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  • 供应商:
    表面处理设备
  • 价格:
    1000.00
  • 最小起订量:
    1台
  • 地址:
  • 手机:
    18823836134
  • 联系人:
    王先生 (请说在中科商务网上看到)
  • 产品编号:
    214615614
  • 更新时间:
    2024-03-09
  • 发布者IP:
  • 产品介绍
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产品参数
  • 山东
  • 定制
  • 优良
  • 完善
产品优势
  • ①表面改性技术(金属、非金属) 通过物理、化学等方法,改变材料表面的形貌、相组成、微观结构、缺陷状态、应力状态。材料表面化学组成不变。 ②表面合金化技术(金属) 通过物理方法,使添加材料进入基体,形成合金化层。 ③表面转化膜技术(金属) 通过化学方法,使添加材料与基体发生化学反应,形成转化膜。 ④表面涂(镀)层技术(金属、非金属) 通过物理、化学方法,使添加材料在基体表面形成镀、涂层。基材不参与涂层的形成。
  • 1、客户反馈:收到客户反馈后,团队能及时响应,了解客户的需求和问题。 2、排查:对问题进行排查,确认问题所在,并提出有效解决方案 3、服务执行:团队会根据客户需求,在规定时间内进行维修、保养等服务。 4、客户反馈:在服务结束后,向客户咨询反馈,了解服务满意度,对服务进行改进。

详细说明

  黑龙江真空镀膜设备规格齐全

  表面处理设备关键部件

  一、多功能离子注入技术及设备

  多功能离子注入是一种将离子注入和增强沉积相结合的先进表面改性新技术。该设备配有多个源头,既能单独使用,也可以根据工艺要求以各种不同方式,部分或同时进行工作,从而实现对材料表面的单元、多元注入或增强沉积。被它处理过的工件,明显改善工件表面的耐磨、耐腐蚀和抗疲劳等性能,从而提高工件的使用寿命。

  二、全方位离子注入与沉积技术及设备

  全方位离子注入是一种先进的材料表面改性新技术。其基本原理是:将需处理的工件直接浸泡在等离子体中,在工件上施加负脉冲高压,离子通过工件周围的等离子体鞘层的加速从各个方向垂直注入工件表面,从而改变零件表面层的物理和化学特性。该设备功能强大,可以注入气体和金属离子,亦可实现增强沉积成膜,在一定深度内,形成与基本之间连续过渡的表面改性层。此改性层的结合力,远优于PVD、CVD涂层。它可明显的提高材料的耐磨、耐腐蚀等性能,从而提高其使用寿命

  IMD又分为IML、IMR,这两种工艺的大区别就是产品表面是否有一层透明的保护薄膜。IML的中文名称:模内镶件注塑其工艺显著的特点是:表面是一层硬化的透明薄膜,中间是印刷图案层,背面是塑胶层,由于油墨夹在中间,可使产品表面被刮花和耐磨擦,并可长期保持颜的鲜明不易退。IMR的中文名称:模内转印此工艺是将图案印刷在薄膜上,通过送膜机将膜片与塑模型腔贴合进行注塑,注塑后有图案的油墨层与薄膜分离,油墨层留在塑件上而得到表面有装饰图案的塑件,在的产品表面是没有一层透明的保护膜,膜片只是生产过程中的一个载体。但IMR的优势在于生产时的自动化程度高和大批量生产的成本较低。IMR的缺点:印刷

  原料粒子的尺寸可为几μm,且通过使原料颗粒粒化所获得的清洁粒子1的尺寸可为几十μm。例如,清洁粒子1的尺寸(大小)可在几μm至100μm的范围内。清洁粒子1的尺寸(大小)可优选地在20μm至50μm的范围内。当原料颗粒被粒化且大小变大时,碰撞能量可能增强。清洁粒子1的大小及形状可根据涂布薄膜及污染物薄膜的硬度来不同地设置。49.图3是示出根据本发明构思的实施例的表面处理方法的流程图。将参考图3描述根据实施例的表面处理方法。50.根据实施例的表面处理方法包括:拆卸待清洁的部件的步骤(s10);通过在真空中经由超音速喷嘴110喷射清洁粒子来清洁部件的步骤(s20);通过向已清洁部件吹扫气体来去除经清洁部件的表面上的灰尘的步骤(s30);及重新涂布经清洁部件的表面的步骤(s40)。51.图4是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备清洁部件的表面的步骤的视图。图5是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备来向部件的表面吹扫气体的步骤的视图。图6是示出使用根据图2的实施例的表面处理设备来涂布部件的表面的步骤的视图。

  采用等离子体技术,可以不分处理对象,对各种各样的材料进行处理。通过轰击被处理材料表面,可以有效去除表面有机污染物,使工件表面亲水性大大提高。电浆清洗机即等离子清洗设备,作用于固体表面用于刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰化和表面改性等场合。通过其处理,能够改善材料表面的润湿能力,使多种材料能够进行涂覆、镀等操作,增强粘合力、键合力,同时去除有机污染物、油污或油脂。等离子清洗与超声波清洗,等离子技术通过使用这种的表面处理工艺,可以实现现代制造工艺所追求的高品质,高性,率,低成本和等目标